池田屋原裝HORIBA堀場SEC-N112MGM氣體流量控制器產品介紹技術參

HORIBA堀場SEC-N112MGM是SEC-N100家族中銷量的模擬接口型氣體質量流量控制器，憑借高精度、高速響應與多場景適配能力，被業界譽為“小Z500"。它以MGMR（多氣體/多量程）技術為核心，將10SCCM至50SLM的流量跨度濃縮于單臺設備，為半導體、光伏、LED等對成本與精度雙重敏感的行業，提供了兼具性價比與可靠性的流量控制解決方案。

二、核心技術與性能參數

（一）精準測量技術

采用熱式傳感器原理，通過微型加熱電橋實時檢測氣體帶走的熱量，直接輸出質量流量數據，規避溫度、壓力波動對測量結果的干擾，確保數據精準性。搭配16點多段曲線與HORIBA專屬氣體數據庫，可實現N?、O?、Ar、H?、SiH?等數十種工藝氣體的線性補償，無需額外校準即可適配多氣體場景。

（二）關鍵性能指標

• 流量范圍：10SCCM - 50SLM（N?當量），支持在20% - 100%滿量程間通過軟件自由切換；

• 精度表現：設定值＞30%F.S.時，精度達±1.0% of Set Point；設定值≤30%F.S.時，精度為±0.3%F.S.；

• 響應速度：搭載可變PID控制算法，全量程階躍響應時間≤1秒，可快速適應工藝參數變化；

• 穩定性保障：重復性±0.2%F.S.，外漏率≤1×10?11Pa·m3/s（He），采用316L EP管（Ra≤0.25µm）與全金屬密封結構，無橡膠圈設計，適配高純度與腐蝕性氣體環境。

（三）接口與安裝特性

支持0–5V、0–10V、4–20mA模擬輸出，供電為±15VDC（±5%），整機功耗＜3W；設備尺寸為81.8×30.5×126mm，重量僅1.2kg，支持任意角度安裝，適配復雜系統集成需求。

三、多場景應用優勢

（一）半導體制造

在刻蝕、LPCVD、ALD等工藝腔體中，可實現SiH?、PH?、NF?等工藝氣體的精密配送，精準控制氣體流量與配比，保障晶圓加工的均勻性與良品率。

（二）光伏產業

針對PERC、TopCon電池的擴散與PECVD工藝，能穩定控制NH?、B?H?、N?O等氣體流量，助力提升電池轉化效率，降低原材料損耗。

（三）LED/OLED生產

在MOCVD反應腔中，可高效管理載氣與反應氣體流量，保障外延層生長的厚度均勻性，提升LED器件的亮度與壽命。

（四）其他領域

在燃料電池領域，可用于氫氣、空氣的計量與泄露測試；在環保與實驗室場景中，支持CEMS標氣稀釋、手套箱氣氛控制等高精度操作。

四、成本與效率優勢

MGMR技術賦予設備“一臺頂多臺"的能力，通過軟件即可瞬間切換氣體種類與量程，可減少50%以上的備件庫存。切換后1秒內完成PID參數重算，無需拆機重新標定，幾乎無停機時間，從采購、校準、維護到倉儲全流程降低成本，已被多家晶圓廠納入“降本增效"實踐案例